| 摘要 |
Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage (1) für die Halbleiterlithographie mit mindestens einem Manipulator (10) zur Reduzierung von Bildfehlern, wobei der Manipulator (10) mindestens zwei zueinander positionierbare optische Elemente (101, 102) aufweist, wobei mindestens eines der optischen Elemente (101, 102) hinsichtlich seiner Wirkung auf eine es durchtretende optische Wellenfront ortsabhängig ist, so dass bei einer Relativbewegung der optischen Elemente (101, 102) gegeneinander eine lokale Phasenänderung einer sich in dem optischen System ausbreitenden Wellenfront entsteht. Dabei ist die ortsabhängige Wirkung des mindestens einen optischen Elementes (101, 102) reversibel dynamisch einstellbar. |
