| 摘要 |
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Bestimmung der Kontamination von Oberflächen mit Partikeln im Nanometerbereich, insbesondere an Oberflächen von Komponenten für die EUV-Mikrolithographie, mit einem Messgehäuse (1, 101, 201, 301), welches einen Raum (4, 104, 204, 304) zumindest teilweise umgibt und ermöglicht, eine zu untersuchende Oberfläche einer Komponente so in oder an dem Messgehäuse anzuordnen, dass der Raum die Oberfläche begrenzt, und mit einer Zuführleitung (2, 102, 202, 302) und einer Abgabeleitung (3, 103, 203, 303), die an dem Messgehäuse so angeschlossen sind, dass ein Fluid über die Zuführleitung in das Messgehäuse eingeführt und über die Abgabeleitung abgeführt werden kann, und mit einem Partikelzähler (7, 107, 207, 307), der in der Abgabeleitung angeordnet ist und von dem Fluid aus dem Messgehäuse durchströmt werden kann. |
