发明名称 |
一种柔性薄膜晶体管 |
摘要 |
本发明提供一种柔性薄膜晶体管,包括:柔性基板;阻挡层,设置于所述柔性基板之上;栅极,设置于所述阻挡层之上;栅极绝缘层,设置于所述阻挡层之上并覆盖所述栅极;有源半导体层,设置于所述栅极绝缘层之上;以及源/漏电极,设置于所述有源半导体层之上并与所述有源半导体层电接触,其中所述阻挡层为包括氮化硅层、氧化硅层和氧化铝层的层叠结构。本发明的柔性薄膜晶体管在阻挡层中加入具有优异阻水/氧性能且缺陷极少的氧化铝层,利用氧化铝层具有较低应力的特性同时形成多层层叠的阻挡层结构,从而缓解薄膜的内应力的积累和叠加,改善了阻挡层与柔性基板的附着性,进而减少薄膜出现脱落的现象。 |
申请公布号 |
CN104051652A |
申请公布日期 |
2014.09.17 |
申请号 |
CN201410276830.7 |
申请日期 |
2014.06.19 |
申请人 |
上海和辉光电有限公司 |
发明人 |
寇浩 |
分类号 |
H01L51/50(2006.01)I |
主分类号 |
H01L51/50(2006.01)I |
代理机构 |
隆天国际知识产权代理有限公司 72003 |
代理人 |
王芝艳;邹宗亮 |
主权项 |
一种柔性薄膜晶体管,包括:柔性基板;阻挡层,设置于所述柔性基板之上;栅极,设置于所述阻挡层之上;栅极绝缘层,设置于所述阻挡层之上并覆盖所述栅极;有源半导体层,设置于所述栅极绝缘层之上;以及源/漏电极,设置于所述有源半导体层之上并与所述有源半导体层电接触,其中所述阻挡层为包括氮化硅层、氧化硅层和氧化铝层的层叠结构。 |
地址 |
201500 上海市金山区金山工业区大道100号1幢二楼208室 |