可自组聚合物及其在光刻中的使用方法

摘要

公开了一种形成可自组嵌段共聚物层的方法，其被定向为形成交替晶域的有序阵列。该方法涉及在衬底上提供可自组嵌段共聚物的层，并且在引发该层的自组以形成晶域的有序阵列之前，将第一表面活性剂沉积在所述层的外表面上。第一表面活性剂具有疏水性尾和亲水性头基团，并且用来减少在嵌段共聚物层的外表面的界面能，以便促进嵌段共聚物聚合物组装为具有交替晶域的有序排列的形成。

主权项

一种在衬底上形成可自组嵌段共聚物的有序阵列的方法，所述方法包括：提供其上具有可自组嵌段共聚物的层的衬底，所述嵌段共聚物具有包括亲水性嵌段和疏水性嵌段的分子，并且所述层具有外表面，将第一表面活性剂沉积到所述层的外表面上，所述第一表面活性剂具有带疏水性尾基团和亲水性头基团的分子，所述亲水性头基团适配为将所述第一表面活性剂吸附到所述嵌段共聚物的所述亲水性嵌段，以及处理所述层，使所述可自组嵌段共聚物进行自组以从所述衬底上的层形成可自组嵌段共聚物的所述有序阵列。