使用电压控制模式进行室匹配

摘要

本发明涉及使用电压控制模式进行室匹配，具体描述了用于补偿在等离子体室中的等离子体处理期间产生的谐波的系统和方法。所述方法之一包括检索组合波形的测量。所述组合波形包括基本波形和谐波波形。所述组合波形限定靠近吸盘的表面的电压，所述吸盘连接到射频（RF）传输线。所述射频传输线连接到阻抗匹配电路。阻抗匹配电路连接到射频发生器。所述方法进一步包括：从所述组合波形提取所述基本波形；确定所述组合波形的幅值与所述基本波形的幅值之间的差值；并且控制所述射频发生器以补偿所述差值。

主权项

一种用于补偿在等离子体室中的等离子体处理期间产生的谐波的方法，所述方法包括：检索组合波形的测量结果，所述组合波形包括基本波形和谐波波形，所述组合波形限定靠近吸盘的表面的电压，所述吸盘连接到射频（RF）传输线，所述射频传输线连接到阻抗匹配电路，所述阻抗匹配电路连接到射频发生器；从所述组合波形提取所述基本波形；确定所述组合波形的幅值与所述基本波形的幅值之间的差值；并且控制所述射频发生器来补偿所述差值，其中所述方法由一个或多个处理器执行。