发明名称
摘要 A sputtering target including an oxide sintered body including In, Zn and Ga, wherein a surface compound and an interior compound are essentially of the same crystal type(s).
申请公布号 JP5591523(B2) 申请公布日期 2014.09.17
申请号 JP20090264086 申请日期 2009.11.19
申请人 发明人
分类号 C23C14/34;C04B35/00;H01L21/363 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人
主权项
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