| 发明名称 | 检验基板的方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开一种检验基板的方法。检验基板的方法包括：通过利用多个投射部依次将图案光束投射到形成有目标物的基板上，获得与基板有关的每个投射部的相位数据；利用所述每个投射部的相位数据，获得与所述基板有关的每个投射部的高度数据；利用所述每个投射部的高度数据补偿所述高度数据的倾斜；修正倾斜补偿后的所述每个投射部的高度数据；以及利用修正后的高度数据来获得整合高度数据。 | ||
| 申请公布号 | CN102538680B | 申请公布日期 | 2014.09.17 |
| 申请号 | CN201110376473.8 | 申请日期 | 2011.11.21 |
| 申请人 | 株式会社高永科技;庆北大学校产学协力团 | 发明人 | 金熙泰;金珉永 |
| 分类号 | G01B11/02(2006.01)I;G01B11/25(2006.01)I | 主分类号 | G01B11/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人 | 顾红霞;何胜勇 |
| 主权项 | 一种检验基板的方法，包括：通过利用多个投射部依次将图案光束投射到形成有目标物的基板上，获得与所述基板有关的每个投射部的相位数据；利用所述每个投射部的相位数据，获得与所述基板有关的每个投射部的高度数据；利用所述每个投射部的高度数据补偿所述每个投射部的高度数据的倾斜；修正倾斜补偿后的所述每个投射部的高度数据；以及利用修正后的高度数据来获得整合高度数据，其中，修正倾斜补偿后的所述每个投射部的高度数据的步骤包括：在修正后的所述每个投射部的高度数据中，选择表现背景高度；以及对修正后的所述每个投射部的高度数据再次进行修正，从而使得所述表现背景高度变为零。 | ||
| 地址 | 韩国首尔 | ||