| 发明名称 | 超高数值孔径光刻成像偏振补偿装置及方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开一种超高数值孔径光刻成像偏振补偿装置及方法，其中所述装置包括：偏振补偿单元，放置于光刻装置投影物镜的光瞳面并对所述投影物镜的出射光束进行偏振调制；偏振检测装置，位于所述投影物镜的像面，以检测所述投影物镜的视场点的偏振态；偏振控制单元，用于控制所述偏振子单元。与现有及技术相比，本发明可以有效提高期望偏振光强达到97%以上，满足超高数值孔径NA的偏振需求，实现分辨率及关键尺寸均匀性CDU需求。 | ||
| 申请公布号 | CN104049466A | 申请公布日期 | 2014.09.17 |
| 申请号 | CN201310076400.6 | 申请日期 | 2013.03.11 |
| 申请人 | 上海微电子装备有限公司 | 发明人 | 孙文凤 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G02F1/03(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人 | 王光辉 |
| 主权项 | 一种超高数值孔径光刻成像偏振补偿装置，其特征在于，包括：偏振补偿单元，放置于光刻装置投影物镜的光瞳面并对所述投影物镜的出射光束进行偏振调制。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区张东路1525号 | ||