| 发明名称 | 具有嵌入式清洗模块的光刻系统 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种光刻系统。该光刻系统包括配置为使用固定在掩模台上的掩模实施光刻曝光工艺的曝光模块；以及集成在曝光模块中并且设计为使用吸附机构清洗掩模和掩模台中的至少一个的清洗模块。本发明还提供了具有嵌入式清洗模块的光刻系统。 | ||
| 申请公布号 | CN104049469A | 申请公布日期 | 2014.09.17 |
| 申请号 | CN201410084248.0 | 申请日期 | 2014.03.07 |
| 申请人 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 发明人 | 简上杰;陈政宏;吴瑞庆;陈家桢;谢弘璋;吕启纶;余家豪;张世明;严涛南 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人 | 章社杲;孙征 |
| 主权项 | 一种光刻系统，包括：曝光模块，配置为使用固定在掩模台上的掩模实施光刻曝光工艺；以及清洗模块，集成在所述曝光模块中，并且所述清洗模块被设计成使用吸附机构清洗所述掩模和所述掩模台中的至少一个。 | ||
| 地址 | 中国台湾新竹 | ||