发明名称 基板处理装置
摘要 本发明提供一种基板处理装置,能够减少成为污染和品质下降的原因的处理液向基板的再附着。该基板处理装置包括:多个卡盘销,分别设置有用于容纳基板的周缘部的容纳槽,通过将容纳槽的内表面推压在基板的周缘部上,在把持位置将基板把持为水平姿势;多个引导构件,分别配置在多个卡盘销的上方,将从基板排出的处理液向基板的周围引导。各引导构件包括:引导内缘,配置在比容纳槽更靠内侧且比容纳槽更靠上方的位置;引导外缘,配置在比引导内缘更靠下方的高度,且配置在比卡盘销更靠外侧的位置。
申请公布号 CN104051305A 申请公布日期 2014.09.17
申请号 CN201410098060.1 申请日期 2014.03.17
申请人 大日本网屏制造株式会社 发明人 山口贵大
分类号 H01L21/67(2006.01)I 主分类号 H01L21/67(2006.01)I
代理机构 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人 宋晓宝;郭晓东
主权项 一种基板处理装置,其特征在于,具有:多个卡盘销,分别设置有用于容纳基板的周缘部的容纳槽,通过将所述容纳槽的内表面推压在所述基板的周缘部上,在把持位置将所述基板把持为水平姿势,喷嘴,向所述多个卡盘销所把持的基板喷出处理液,多个引导构件,分别配置在所述多个卡盘销的上方,将从所述基板排出的处理液向所述基板的周围引导,旋转马达,使所述多个卡盘销与所述多个引导构件一起围绕通过所述基板的铅垂的基板旋转轴线旋转,筒状的杯,以所述基板旋转轴线为中心包围所述多个卡盘销以及引导构件,用于挡住从所述多个卡盘销所把持的基板向外侧排出的处理液;所述多个引导构件各自具有:引导内缘,配置在比所述容纳槽更靠内侧且比所述容纳槽更靠上方的位置;引导外缘,配置在与所述引导内缘相等或比所述引导内缘更靠下方的高度,且配置在比所述卡盘销更靠外侧的位置。
地址 日本京都府京都市