一种电镀华司的制作工艺

摘要

本发明公开了一种电镀华司的制作工艺，旨在提供一种加工方法简单，所得产品精度较高的电镀华司的加工工艺，其技术要点，该方法依次包括下述步骤：1)将卷料送至冲压机进行冲孔；其中：冲压后的各孔径允许公差为：中孔径：-0～+0.05mm，钉径：-0～-0.07mm，内孔径：-0～+0.1mm；2)将冲孔后的后的华司进行电镀即得；电镀后的各孔径允许公差为：中孔径：+0.02～+0.07mm，钉径：-0.085～-0.02mm，内孔径：0.02～+0.12mm；3)制作完成后进行检测；属于华司技术领域。

主权项

一种电镀华司的制作工艺，其特征在于，依次包括下述步骤：1)将卷料送至冲压机进行冲孔；其中：冲压后的各孔径允许公差为：中孔径：‑0～+0.05mm，钉径：‑0～‑0.07mm，内孔径：‑0～+0.1mm；2)将冲孔后的后的华司进行电镀即得；电镀后的的各孔径允许公差为：中孔径：+0.02～+0.07mm，钉径：‑0.085～‑0.02mm，内孔径：0.02～+0.12mm；3)制作完成后进行检测。