曝光装置及元件制造方法

摘要

一种曝光装置(EX)，是透过液体(LQ)将曝光用光(EL)照射于基板(P)，以使基板(P)曝光，具备：光学系统(PL)，具有与基板(P)对向的端面(T1)，使照射于基板(P)的曝光用光(EL)通过；以及液浸机构(11，21等)，是供应液体(LQ)且回收液体；该液浸机构具有板构件(172D)，该板构件具有以和基板(P)平行对向的方式配置于基板(P)与光学系统端面(T1)之间、且配置成包围曝光用光(EL)的光路的平坦面(75)；从供应口(12)将液体(LQ)供应至光学系统端面(T1)与板构件(172D)间的空间(G2)，且透过液体回收口(22)回收从该供应口供应的液体，该回收口(22)是在较该板构件的平坦面(75)更离开曝光用光(EL)光路的位置配置成与基板(P)对向。本发明还公开了一种元件制造方法。

主权项

一种曝光装置，是透过液体将曝光用光照射于基板，以使该基板曝光，其特征在于，具备：投影光学系统；以及液浸机构，供应该液体且回收该液体；该液浸机构，具有：液体供应口，设于该曝光用光的光路空间外侧的第1位置、且供应液体；以及导引构件，导引液体，使该液体供应口所供应的液体透过该光路空间流向与该光路空间外侧的该第1位置相异的第2位置。