具磁性遮蔽的自对准双图案化技术改进;SELF ALIGNED DUAL PATTERNING TECHNIQUE ENHANCEMENT WITH MAGNETIC SHIELDING

摘要

本发明的实施例大体上提供藉由减少外部磁杂讯以改善处理均匀性的设备和方法。本发明的一实施例提供用于处理半导体基板的设备。设备包括腔室主体,腔室主体定义真空容积,用以处理内含的一或更多基板,及遮蔽组件,用以遮蔽磁通量而保护腔室主体,遮蔽组件设在腔室主体外,其中遮蔽组件包含底板,底板置于腔室主体与地面之间,以遮蔽来自地球的磁通量。