用于极紫外光之可适性照明装置、系统及方法;ADAPTABLE ILLUMINATING APPARATUS, SYSTEM, AND METHOD FOR EXTREME ULTRA-VIOLET LIGHT

摘要

本发明揭示一种用于在一半导体检验系统中聚焦光之装置，该装置包含：一第一镜，其经配置以反射由一电浆源产生之极紫外光(EUV)；及一第二镜，其经配置以将自该第一镜反射之该EUV光聚焦于一第一中间聚焦平面上。本发明亦揭示一种均匀化隧道，其包含：一第一孔隙，其具有一第一形状及一第一大小且经配置以接收极紫外(EUV)光；一第二孔隙，其具有一第二形状及一第二大小；及一通路，其连接该第一孔隙及该第二孔隙且经配置以均匀化由该第一孔隙接收之该EUV光。该第一形状不同于该第二形状或该第一大小不同于该第二大小。