发明名称 电感式耦合电浆源;INDUCTIVELY COUPLED PLASMA SOURCE
摘要 兹提供用于电浆处理的方法与装置之实施例。在一些实施例中,一种电感式耦合电浆装置,包括:一底墙,该底墙包含一轮毂与一环件,该环件藉由一电容耦合于该轮毂,其中该轮毂与该环件之每一者呈导电,且其中该轮毂具有一中心开口,该中心开口准直于该电感式耦合电浆装置之一中心轴;一顶墙;该顶墙与该底墙相间隔且位于该底墙上方,其中该顶墙具有一中心开口,该中心开口准直于该中心轴,且其中该顶墙呈导电;一侧墙,该侧墙将该环件电性连接于该顶墙;以及一管件,该管件将该轮毂电性连接于该顶墙,该管件具有一中心开口,该中心开口准直于该中心轴。
申请公布号 TW201436654 申请公布日期 2014.09.16
申请号 TW103100865 申请日期 2014.01.09
申请人 应用材料股份有限公司 发明人 恩盖叶安德鲁;拉马斯瓦米卡提克;杨洋;兰史蒂芬
分类号 H05H1/46(2006.01) 主分类号 H05H1/46(2006.01)
代理机构 代理人 <name>蔡坤财</name><name>李世章</name>
主权项
地址 APPLIED MATERIALS, INC. 美国