发明名称 半导体装置及使用其之电力转换装置;SILICON POWER DEVICE AND POWER CONVERSION EQUIPMENT PROVIDED WITH THE SAME
摘要 半导体装置具备:选择性形成于n-基板(1)的其中一个主表面之p型基极层(2);形成于p型基极层的表面之n型源极层(3);在n-基板(1)的另一个主表面互相分离而设之p型高浓度射极层(7)及p型低浓度射极层(8);电性连接于p型基极层(2)及n型源极层(3)之射极电极;在被n-基板(1)与n型源极层(3)夹住之p型基极层(2)的表面隔着闸极氧化膜(5)而设之闸极电极(6);以及分别个别地电性连接于p型高浓度射极层(7)与p型低浓度射极层(8)的集极电极。
申请公布号 TW201436203 申请公布日期 2014.09.16
申请号 TW102147959 申请日期 2013.12.24
申请人 日立制作所股份有限公司 发明人 増永昌弘;桥本贵之
分类号 H01L29/739(2006.01);H02M1/00(2007.01) 主分类号 H01L29/739(2006.01)
代理机构 代理人 <name>林志刚</name>
主权项
地址 HITACHI, LTD. 日本