发明名称 |
半导体装置及使用其之电力转换装置;SILICON POWER DEVICE AND POWER CONVERSION EQUIPMENT PROVIDED WITH THE SAME |
摘要 |
半导体装置具备:选择性形成于n-基板(1)的其中一个主表面之p型基极层(2);形成于p型基极层的表面之n型源极层(3);在n-基板(1)的另一个主表面互相分离而设之p型高浓度射极层(7)及p型低浓度射极层(8);电性连接于p型基极层(2)及n型源极层(3)之射极电极;在被n-基板(1)与n型源极层(3)夹住之p型基极层(2)的表面隔着闸极氧化膜(5)而设之闸极电极(6);以及分别个别地电性连接于p型高浓度射极层(7)与p型低浓度射极层(8)的集极电极。 |
申请公布号 |
TW201436203 |
申请公布日期 |
2014.09.16 |
申请号 |
TW102147959 |
申请日期 |
2013.12.24 |
申请人 |
日立制作所股份有限公司 |
发明人 |
増永昌弘;桥本贵之 |
分类号 |
H01L29/739(2006.01);H02M1/00(2007.01) |
主分类号 |
H01L29/739(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
<name>林志刚</name> |
主权项 |
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地址 |
HITACHI, LTD. 日本 |