发明名称 | 接触结构以及采用该接触结构的半导体记忆元件;CONTACT STRUCTURE AND SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE USING THE SAME | ||
摘要 | 本发明披露一种半导体记忆元件,包含有一基材,其上包含一记忆阵列区域以及一周边电路区域;一第一介电层,覆盖该记忆阵列区域以及该周边电路区域;一第二介电层,位于该第一介电层上,覆盖该记忆阵列区域以及该周边电路区域;至少一电容结构,位于该记忆阵列区域内,且该电容结构包含一电极材料层,埋设在该第二介电层中;以及一接触结构,包含该电极材料层。 | ||
申请公布号 | TW201436111 | 申请公布日期 | 2014.09.16 |
申请号 | TW102113657 | 申请日期 | 2013.04.17 |
申请人 | 南亚科技股份有限公司 | 发明人 | 俞建安;吴奇煌 |
分类号 | H01L21/8242(2006.01);H01L27/108(2006.01) | 主分类号 | H01L21/8242(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | <name>吴丰任</name><name>戴俊彦</name> | |
主权项 | |||
地址 | NANYA TECHNOLOGY CORP. 桃园县龟山乡华亚科技园区复兴三路669号 |