发明名称 |
用于检测由自对准双图案制程制造的字元线阵列中缺陷的结构与方法;STRUCTURE FOR INSPECTING DEFECTS IN WORD LINE ARRAY FABRICATED BY SADP PROCESS AND METHOD THEREOF |
摘要 |
本发明提供一种由自对准双图案制程所形成以检测字元线阵列的测试结构,测试结构包含一轮廓电路以覆盖字元线阵列的一端且使字元线阵列交替地悬浮或接地。字元线阵列可由电子束检测工具检测以辨识断路或短路缺陷。 |
申请公布号 |
TW201435365 |
申请公布日期 |
2014.09.16 |
申请号 |
TW103105565 |
申请日期 |
2014.02.19 |
申请人 |
汉民微测科技股份有限公司 |
发明人 |
萧宏;招允佳 |
分类号 |
G01R31/02(2006.01);G01N23/225(2006.01) |
主分类号 |
G01R31/02(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
<name>陈达仁</name> |
主权项 |
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地址 |
HERMES MICROVISION INC. 新竹市埔顶路18号7楼 |