| 摘要 |
本发明的问题在于提供一种图案形成方法,其包含以下步骤:使用相较于以往的剥离液条件更温和的湿式剥离液,在不损伤被加工体的前提下,移除抗蚀剂下层膜。为了解决该问题,本发明提供一种图案形成方法,其包含以下步骤:(1)于形成有含钛硬遮罩之被加工体上,形成有机下层膜;(2)于有机下层膜上,形成含钛率为10质量%~60质量%的含钛抗蚀剂下层膜;(3)于含钛抗蚀剂下层膜上,形成光阻剂膜;(4)将光阻剂膜曝光并进行显影,藉此形成光阻剂图案;(5)将光阻剂图案作为遮罩,将图案转印至含钛抗蚀剂下层膜上;(6)将含钛抗蚀剂下层膜作为遮罩,将图案转印至有机下层膜上;(7)藉由湿式剥离法,移除含钛硬遮罩与含钛抗蚀剂下层膜。 |
