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经营范围
发明名称
半导体装置及其制造方法;SEMICONDUCTOR DEVICES AND METHOD OF MANUFACTURE THEREOF
摘要
本发明提供一种半导体装置,包括:一基底,具有N型鳍式场效电晶体区;闸极结构,形成于鳍结构上,其中鳍结构具有含结晶矽之材料;通道区,设于鳍结构中,其中通道区被闸极结构环绕;掺杂源极区或汲极区,其中掺杂源极区或汲极区藉由间隔结构与通道区分离;及轻掺杂汲极区,设于源极区或汲极区与通道区之间,其中轻掺杂汲极区位于间隔结构之下,其中掺杂源极区或汲极区的N型掺质的平均掺杂浓度显着地高于轻掺杂汲极区的N型掺质的平均掺杂浓度。本发明亦提供此半导体装置之制造方法。
申请公布号
TW201436052
申请公布日期
2014.09.16
申请号
TW102148627
申请日期
2013.12.27
申请人
台湾积体电路制造股份有限公司
发明人
蔡俊雄;王参群;刘书豪
分类号
H01L21/336(2006.01);H01L21/28(2006.01)
主分类号
H01L21/336(2006.01)
代理机构
代理人
<name>洪澄文</name><name>颜锦顺</name>
主权项
地址
TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD. 新竹市新竹科学工业园区力行六路8号
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