| 摘要 |
一种适用于图案化之蓝宝石基板结构及图案化蓝宝石基板形成方法。图案化之蓝宝石基板适用于作为发光元件之基板。蓝宝石基板结构包括一光阻层、一光阻下层及一蓝宝石基板。光阻层为一均质层,其材质为G线光阻、I线光阻、248 nm DUV光阻或193 nm Arf光阻,且具有一平坦表面。光阻下层为一均质层,其材质为有机化合物或无机化合物,且具有一平坦表面。蓝宝石基板系使用长晶技术所形成,光阻层及光阻下层系使用涂布技术所形成。在蓝宝石基版结构形成后,依序藉由一曝光/显影程序、一蚀刻程序及一清除程序使蓝宝石基板结构逐步转换成为图案化蓝宝石基板。 |
