发明名称 层间导体结构及其制造方法;INTERLAYER CONDUCTOR STRUCTURE AND METHOD
摘要 一衬垫堆叠耦接于个别电路的主动层,以形成内连导体结构。呈多列的层间导体在X方向上延伸,并在堆叠中与对应的衬垫接触于着陆区。相邻之列的层间导体间在Y方向上彼此分隔,该Y方向垂直于X方向。同一列的层间导体在X方向上具有第一间距。相邻之列的层间导体之间在X方向上偏移,偏移量小于第一间距。内连导体形成于层间导体之上并与之接触。内连导体在Y方向上延伸并具有第二间距,其中第二间距小于第一间距。
申请公布号 TW201436193 申请公布日期 2014.09.16
申请号 TW102139597 申请日期 2013.10.31
申请人 旺宏电子股份有限公司 发明人 陈士弘
分类号 H01L27/24(2006.01);H01L23/52(2006.01) 主分类号 H01L27/24(2006.01)
代理机构 代理人 <name>祁明辉</name><name>林素华</name>
主权项
地址 MACRONIX INTERNATIONAL CO., LTD. 新竹县科学工业园区力行路16号