发明名称 |
层间导体结构及其制造方法;INTERLAYER CONDUCTOR STRUCTURE AND METHOD |
摘要 |
一衬垫堆叠耦接于个别电路的主动层,以形成内连导体结构。呈多列的层间导体在X方向上延伸,并在堆叠中与对应的衬垫接触于着陆区。相邻之列的层间导体间在Y方向上彼此分隔,该Y方向垂直于X方向。同一列的层间导体在X方向上具有第一间距。相邻之列的层间导体之间在X方向上偏移,偏移量小于第一间距。内连导体形成于层间导体之上并与之接触。内连导体在Y方向上延伸并具有第二间距,其中第二间距小于第一间距。 |
申请公布号 |
TW201436193 |
申请公布日期 |
2014.09.16 |
申请号 |
TW102139597 |
申请日期 |
2013.10.31 |
申请人 |
旺宏电子股份有限公司 |
发明人 |
陈士弘 |
分类号 |
H01L27/24(2006.01);H01L23/52(2006.01) |
主分类号 |
H01L27/24(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
<name>祁明辉</name><name>林素华</name> |
主权项 |
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地址 |
MACRONIX INTERNATIONAL CO., LTD. 新竹县科学工业园区力行路16号 |