发明名称 在光罩载台环境中之气流最佳化;GAS FLOW OPTIMIZATION IN RETICLE STAGE ENVIRONMENT
摘要 本发明揭示一种用于藉由控制围绕一微影装置之一图案化器件之气流来缩减叠对误差的系统。该微影装置包括一照明系统,该照明系统经组态以调节一辐射光束。该微影装置进一步包括一可移动载台,该可移动载台包含一支撑结构,该支撑结构可经组态以支撑一图案化器件。该图案化器件可经组态以在该辐射光束之横截面中向该辐射光束赋予一图案以形成一经图案化辐射光束。另外,该微影装置包含一板,该板定位于该可移动载台与投影系统之间。该板包括一开口,该开口包含一第一侧壁及一第二侧壁。该板可经组态以在该可移动载台与该投影系统之间的一区中提供一气体流型,该气体流型实质上垂直于该照明系统之一光轴。
申请公布号 TW201435518 申请公布日期 2014.09.16
申请号 TW103105692 申请日期 2014.02.20
申请人 ASML控股公司 发明人 赛伯斯 科恩;迪 安得烈 欧力拉 玛切洛 亨利克;瑞米 玛里努斯 珍;席恩 查泰博;凡 柏克哈文 罗伦堤斯 约翰纳斯 安卓那斯;范 戴 凡 亨利可思 安妮塔 桥瑟夫 威西莫司;风赛卡 裘尼尔 荷西 倪尔顿;凡 波克特 法兰克 乔汉斯 贾柏斯;波本克 丹尼尔 奈森;洛卜史塔 艾瑞克 罗勒夫;昂夫里 乔汉斯;史雀司特 马克 乔瑟夫;范 巴利高伊 罗博特 尼可丹 贾库巴;华德 克里斯多弗 查尔斯;威斯特雷肯 祯 史蒂芬 克里斯丁
分类号 G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01) 主分类号 G03F7/20(2006.01)
代理机构 代理人 <name>林嘉兴</name>
主权项
地址 ASML HOLDING N.V. 荷兰