正型光阻组成物，光阻图型之形成方法;POSITIVE RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN

摘要

一种正型光阻组成物,其为含有经由酸之作用而增加对硷显影液之溶解性的基材成份(A),及经由曝光而产生酸之酸产生剂成份(B)之正型光阻组成物,其特征为,前述基材成份(A)为含有,具有通式(a0-1)所表示之结构单位(a0),与含有酸解离性溶解抑制基之丙烯酸酯所衍生之结构单位(a1),与通式(a3-1)所表示之含有含羟基之脂肪族烃基之丙烯酸酯所衍生之结构单位(a3)的高分子化合物(A1),相对于构成该高分子化合物(A1)之全结构单位而言,前述结构单位(a3)之比例为1~30莫耳%之范围内。