发明名称 |
Ladungsteilchen-Strahlungsvorrichtung und arithmetische Vorrichtung |
摘要 |
Es ist möglich, einen optimalen Betrag eines parasitischen Aberrationsabgleichs zu bestimmen, selbst wenn die Beziehung zwischen dem Betrag des parasitischen Aberrationsabgleichs und der Feldintensität von Mehrfachpolen sich in nicht-linearer Weise verändert. Zu diesem Zweck wird erfindungsgemäß ein Betrag der Aberrationskorrektur durch Messen eines Aberrationskoeffizienten einer optischen Einheit einer Ladungsteilchen-Strahlungsvorrichtung berechnet und gleichzeitig wird der aktuelle Wert eines Stromversorgungssteuerungswerts, der an eine Aberrationskorrekturvorrichtung angelegt wird, gemessen. Anschließend wird der Betrag des parasitischen Aberrationsabgleichs zur Unterdrückung des Betrags einer parasitischen Aberration, die in der Aberrationskorrekturvorrichtung erzeugt wird, auf der Grundlage des Betrags der Aberrationskorrektur und des aktuellen Werts des Stromversorgungssteuerungswerts berechnet. |
申请公布号 |
DE112012005455(T5) |
申请公布日期 |
2014.09.11 |
申请号 |
DE20121105455T |
申请日期 |
2012.12.17 |
申请人 |
HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION |
发明人 |
NAKANO, TOMONORI,;OSE, YOICHI,;URANO, KOTOKO, |
分类号 |
H01J37/153;H01J37/26;H01J37/28 |
主分类号 |
H01J37/153 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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