发明名称 Nanodrahtstrukturen mit Rundumkontakten
摘要 <p>Nanodrahtstrukturen mit Rundumkontakten werden beschrieben. Beispielsweise schließt ein Nanodraht-Halbleiterbauelement einen über einem Substrat angeordneten Nanodraht ein. Ein Kanal-Gebiet wird im Nanodraht angeordnet. Das Kanal-Gebiet hat eine Länge und einen Umfang orthogonal zur Länge. Ein Gateelektrodenpacket umgibt den gesamten Umfang des Kanal-Gebiets. Ein Paar aus Source- und Drain-Gebieten wird im Nanodraht auf beiden Seiten des Kanal-Gebiets angeordnet. Jedes der Source- und Drain-Gebiete hat einen Umfang, der orthogonal zur Länge des Kanal-Gebiets ist. Ein erster Kontakt umgibt den Umfang des Source-Gebiets komplett. Ein zweiter Kontakt umgibt den Umfang des Drain-Gebiets komplett.</p>
申请公布号 DE112011106006(T5) 申请公布日期 2014.09.11
申请号 DE201111106006T 申请日期 2011.12.23
申请人 INTEL CORP. 发明人 WEBER, CORY E.;KEYS, PATRICK H.;HAVERTY, MICHAEL G.;SHANKAR, SADASIVAN;CEA, STEPHEN M.;KIM, SEIYON
分类号 H01L21/28;H01L21/336;H01L29/78 主分类号 H01L21/28
代理机构 代理人
主权项
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