发明名称 Ladungsteilchenvorrichtung und Verdrahtungsverfahren
摘要 Mit der Erfindung wird ein Verdrahtungsverfahren und eine Ladungsteilchenvorrichtung vorgestellt, bei dem bzw. bei der die Verdrahtung in der Vakuumkammer der Ladungsteilchenvorrichtung ohne eine Gasabscheidung und dergleichen erfolgt. Dazu umfaßt die vorliegende Erfindung ein Verdrahtungsverfahren, bei dem durch Auftropfen einer ionischen Flüssigkeit auf eine Probe oder Bereitstellen einer ionischen Flüssigkeit auf einem Probentisch, auf dem eine Probe angeordnet wird, und Bestrahlen des Verdrahtungswegs zwischen einem Startpunkt und einem Endpunkt der Verdrahtung mit einem Ladungsteilchenstrahl in einer Ladungsteilchenvorrichtung eine Verdrahtungsleitung aus der ionischen Flüssigkeit ausgebildet wird. Dadurch kann die Verdrahtung in der Vakuumkammer einer Ladungsteilchenvorrichtung ohne Anwendung eines Gasabscheidungsverfahrens und dergleichen ausgebildet werden.
申请公布号 DE112013000459(T5) 申请公布日期 2014.09.11
申请号 DE20131100459T 申请日期 2013.02.01
申请人 HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION 发明人 HASHIMOTO, YOICHIRO,;NAKAZAWA, EIKO,;KONOMI, MAMI,;TAKEUCHI, SHUICHI,
分类号 H01J37/20;G01N1/28 主分类号 H01J37/20
代理机构 代理人
主权项
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