| 摘要 |
<p>Es wird ein chemisch-mechanisches Mehrschicht-Polierkissen bereitgestellt, welches aufweist: eine Polierschicht mit einer Polieroberfläche, einer Ansenkungsöffnung, einem Polierschicht-Grenzbereich parallel zur Polieroberfläche, eine poröse Unterkissenschicht mit einer unteren Oberfläche und einem poröse Unterkissenschicht-Grenzbereich parallel zur unteren Oberfläche und einen Breitspektrum-Endpunkterfassungsfensterblock, wobei der Polierschicht-Grenzbereich und der poröse Unterkissenschicht-Grenzbereich einen sich gemeinsam erstreckenden Bereich bilden, wobei das chemisch-mechanische Mehrschicht-Polierkissen eine Durchgangsöffnung aufweist, die sich von der Polieroberfläche zu der unteren Oberfläche der porösen Unterkissenschicht erstreckt, wobei die Ansenkungsöffnung auf der Polieroberfläche offen ist, die Durchgangsöffnung erweitert und einen Absatz bildet, und wobei der Breitspektrum-Endpunkterfassungsfensterblock innerhalb der Ansenkungsöffnung angeordnet ist.</p> |
