发明名称 |
光阻剥离剂组成物及使用其之剥离方法 |
摘要 |
本发明系提供一种含有下述式(1)所表示之醯胺系溶剂(A)与有机胺化合物(B)之光阻剥离剂组成物、及使用该光阻剥离剂组成物之光阻剥离方法,即使在光阻剂溶解的状态下,仍可得充分的剥离性能、可长时间使用的光阻剥离剂组成物及使用其之光阻剂剥离方法。;(式中,R1为碳数1至6之直链状或分支状或环状烷基,R2与R3分别独立为碳数1至3之直链状或分支状烷基,n为0至2之整数);(1) |
申请公布号 |
TWI452446 |
申请公布日期 |
2014.09.11 |
申请号 |
TW099102849 |
申请日期 |
2010.02.01 |
申请人 |
出光兴产股份有限公司 日本 |
发明人 |
藤冈东洋藏;山崎勇人 |
分类号 |
G03F7/42;C11D7/32;C11D7/26;C11D7/50 |
主分类号 |
G03F7/42 |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼 |
主权项 |
一种光阻剥离剂组成物,其特征为含有下述式(1)所表示之醯胺系溶剂(A)与选自一级链烷醇胺、二级链烷醇胺、二级胺、三级链烷醇胺、及三级胺中至少一种之有机胺化合物(B),其中,醯胺系溶剂(A)与有机胺化合物(B)之质量比为(A)/(B)=99/1~50/50,(式中,R1为碳数1至6之直链状或分支状或环状烷基,R2与R3分别独立为碳数1至3之直链状或分支状烷基,n为0至2之整数)。 |
地址 |
日本 |