发明名称 光阻剥离剂组成物及使用其之剥离方法
摘要 本发明系提供一种含有下述式(1)所表示之醯胺系溶剂(A)与有机胺化合物(B)之光阻剥离剂组成物、及使用该光阻剥离剂组成物之光阻剥离方法,即使在光阻剂溶解的状态下,仍可得充分的剥离性能、可长时间使用的光阻剥离剂组成物及使用其之光阻剂剥离方法。;(式中,R1为碳数1至6之直链状或分支状或环状烷基,R2与R3分别独立为碳数1至3之直链状或分支状烷基,n为0至2之整数);(1)
申请公布号 TWI452446 申请公布日期 2014.09.11
申请号 TW099102849 申请日期 2010.02.01
申请人 出光兴产股份有限公司 日本 发明人 藤冈东洋藏;山崎勇人
分类号 G03F7/42;C11D7/32;C11D7/26;C11D7/50 主分类号 G03F7/42
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种光阻剥离剂组成物,其特征为含有下述式(1)所表示之醯胺系溶剂(A)与选自一级链烷醇胺、二级链烷醇胺、二级胺、三级链烷醇胺、及三级胺中至少一种之有机胺化合物(B),其中,醯胺系溶剂(A)与有机胺化合物(B)之质量比为(A)/(B)=99/1~50/50,(式中,R1为碳数1至6之直链状或分支状或环状烷基,R2与R3分别独立为碳数1至3之直链状或分支状烷基,n为0至2之整数)。
地址 日本