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发明名称
三族-氮半导体奈米构造及其发光二极体
摘要
一种三族-氮半导体奈米构造包含一基板、数个奈米柱及一绝缘层。该基板具有一第一表面,该奈米柱成长在该基板之第一表面上,而该绝缘层系由旋涂式玻璃方法形成在该基板之第一表面上,且该绝缘层填入形成在该奈米柱之间,以便在该奈米柱之间形成绝缘部。该三族-氮半导体奈米构造系属高密度奈米柱,并省略该绝缘层,以提高该奈米柱的密度,因而能简化构造。本发明较佳实施例系该奈米柱之结构形成本发明之三族-氮半导体奈米发光二极体。
申请公布号
TWI452719
申请公布日期
2014.09.11
申请号
TW097116441
申请日期
2008.05.05
申请人
国立中山大学 高雄市鼓山区莲海路70号
发明人
杜立伟;萧庆廉;林员梃;陈敏;杜彦洁
分类号
H01L33/00
主分类号
H01L33/00
代理机构
代理人
颜豪呈 高雄市苓雅区意诚路7号9楼之1
主权项
一种三族-氮半导体奈米构造,其包含:一基板,其具有一第一表面;数个奈米柱,其成长在该基板之第一表面上,该奈米柱利用分子束磊晶法形成在该基板之第一表面上,该奈米柱包含一p型氮化镓层、一氮化铟镓层及一n型氮化镓层;该p型氮化镓层系形成在该氮化铟镓层上,而该氮化铟镓层系形成在该n型氮化镓层上;及一绝缘层,其系由旋涂式玻璃方法形成在该基板之第一表面上;其中该绝缘层填入形成在该奈米柱之间,以便在该奈米柱之间形成绝缘部。
地址
高雄市鼓山区莲海路70号
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