基板处理装置及基板处理方法

摘要

本发明的基板处理装置，系包括有：第1处理室及第2处理室、第1基板保持单元、药液供给单元、基板搬送单元、及第2基板保持单元；其中，该第1基板保持单元系利用上述第1处理室保持基板；该药液供给单元系将含有蚀刻成分与增黏剂的药液，供给至由上述第1基板保持单元所保持的基板；该基板搬送单元系在上述药液保持于上述基板的状态下，将该基板从上述第1处理室搬送至上述第2处理室；该第2基板保持单元系将保持有上述药液的复数片基板，利用上述第2处理室保持。

主权项

一种基板处理装置，系包括有：第1处理室、第2处理室与第3处理室；第1基板保持单元，系利用上述第1处理室保持基板；药液供给单元，系将含有蚀刻成分与增黏剂的药液，供给至由上述第1基板保持单元所保持的基板的上面；第2基板保持单元，其包含可依将保持有上述药液之复数片基板依水平姿势上下并排之方式，而利用上述第2处理室同时保持上述复数片基板之复数的基板保持构件；第3基板保持单元，系利用上述第3处理室保持保持有上述药液之基板；以及基板搬送单元，系在上述药液保持于上述基板的状态下，将该基板从上述第1处理室搬送至上述第2处理室，而在上述药液保持于上述基板的状态下，将该基板从上述第2处理室搬送至上述第3处理室。