遮罩与工件的对位方法

摘要

〔课题〕即使工件产生伸缩变形，也可让藉由投影曝光而形成于工件之图案的位置，在藉由之前的曝光处理所形成之图案的位置，与在下个工程中进行之网版印刷等之遮罩图案的位置之间，不产生较大偏离。;〔解决手段〕在投影曝光装置之对位时，以遮罩(M)的遮罩标记(MAM1~4)与工件标记(WAM1~4)的偏离量(dR)的总和，加上遮罩(M)的遮罩标记(MAM1~4)之位置与在下个工程中使用之网版遮罩的遮罩标记(SAM1~4)之基准位置的偏离量(dM)的总和者成为最小之方式，调整放大或缩小投影前述遮罩(M)的图案之倍率，并且使遮罩(M)与工件(W)移动，进行遮罩(M)与工件(W)的对位。

主权项

一种遮罩与工件的对位方法，系将第1遮罩的图案，放大或缩小投影至与该遮罩大小不同的工件上，并将形成于前述遮罩之校准标记的投影像与形成于工件上的校准标记像加以对位，于工件上曝光前述遮罩图案之遮罩与工件的对位方法，其特征为：预先记忆在下个工程中用以重叠对合于前述工件所使用之预先订定之大小的第2遮罩之校准标记的位置；在进行第1遮罩与工件的对位时，调整将前述第1遮罩的图案放大或缩小投影至前述工件上的倍率，以第1偏离量与第2偏离量的总合成为最小之方式，将前述第1遮罩与前述工件加以对位；前述第1偏离量，系形成于该第1遮罩之校准标记像的工件上之投影位置，与形成于工件之校准标记的偏离量；前述第2偏离量，系与形成于第1遮罩之校准标记的工件上之投影位置，与形成于前述被记忆之第2工件的校准标记之位置的偏离量。