发明名称 抗反射组合物及其制造方法与用途
摘要 一种抗反射组合物及其制造方法,该抗反射组合物包含一表面具有羟基基团之中空颗粒,具有约10奈米至约200奈米之平均粒径与约10%至约90%之中空部分的孔隙率,且该羟基基团之密度大于约2%;以及一黏结剂,具有可与该羟基基团形成化学键结的基团。该抗反射组合物可用于抗反射薄膜,具有增进的耐磨性与耐刮擦性并展现令人满意的抗反射效果。
申请公布号 TWI452096 申请公布日期 2014.09.11
申请号 TW101121125 申请日期 2012.06.13
申请人 长兴材料工业股份有限公司 高雄市三民区建工路578号 发明人 周青竹;周浪;卜诗尧
分类号 C09D7/12;G02B1/11 主分类号 C09D7/12
代理机构 代理人 陈翠华 台北市松山区南京东路3段261号6楼
主权项 一种抗反射组合物,包含:一表面具有羟基基团且未经表面化学修饰之中空颗粒,具有10奈米至200奈米之平均粒径与10%至90%之中空部分的孔隙率,且该羟基基团之密度大于2%;以及一黏结剂,具有可与该羟基基团形成化学键结的基团。
地址 高雄市三民区建工路578号