发明名称 |
半导体元件及其制造方法 |
摘要 |
本发明提供半导体元件,包含元件基底,具有正面和背面,对应至半导体元件的正面和背面,金属特征形成于元件基底的正面上,接合垫设置于半导体元件的背面上,并且与金属特征电性连接,以及屏蔽结构设置于元件基底的背面上,其中屏蔽结构与接合垫具有彼此不同的厚度。 |
申请公布号 |
TWI452683 |
申请公布日期 |
2014.09.11 |
申请号 |
TW100136018 |
申请日期 |
2011.10.05 |
申请人 |
台湾积体电路制造股份有限公司 新竹市新竹科学工业园区力行六路8号 |
发明人 |
蔡双吉;杨敦年;刘人诚;王文德;林政贤;何承颖 |
分类号 |
H01L27/14;H01L23/552 |
主分类号 |
H01L27/14 |
代理机构 |
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代理人 |
洪澄文 台北市南港区三重路19之6号2楼;颜锦顺 台北市南港区三重路19之6号2楼 |
主权项 |
一种半导体元件,包括:一元件基底,具有一正面和一背面,对应至该半导体元件的一正面和一背面;一金属特征,设置于该元件基底的该正面上;一接合垫,设置于该半导体元件的该背面上,且与该金属特征电性连接;一屏蔽结构,设置于该元件基底的该背面上,其中该屏蔽结构与该接合垫具有相对于彼此不同的厚度;一抗反射涂层,设置于该元件基底的该背面上;以及一第一缓冲层,设置于该抗反射涂层上,其中该屏蔽结构设置于该第一缓冲层上,并且该屏蔽结构不接触该元件基底。 |
地址 |
新竹市新竹科学工业园区力行六路8号 |