发明名称 半导体元件及其制造方法
摘要 本发明提供半导体元件,包含元件基底,具有正面和背面,对应至半导体元件的正面和背面,金属特征形成于元件基底的正面上,接合垫设置于半导体元件的背面上,并且与金属特征电性连接,以及屏蔽结构设置于元件基底的背面上,其中屏蔽结构与接合垫具有彼此不同的厚度。
申请公布号 TWI452683 申请公布日期 2014.09.11
申请号 TW100136018 申请日期 2011.10.05
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 新竹市新竹科学工业园区力行六路8号 发明人 蔡双吉;杨敦年;刘人诚;王文德;林政贤;何承颖
分类号 H01L27/14;H01L23/552 主分类号 H01L27/14
代理机构 代理人 洪澄文 台北市南港区三重路19之6号2楼;颜锦顺 台北市南港区三重路19之6号2楼
主权项 一种半导体元件,包括:一元件基底,具有一正面和一背面,对应至该半导体元件的一正面和一背面;一金属特征,设置于该元件基底的该正面上;一接合垫,设置于该半导体元件的该背面上,且与该金属特征电性连接;一屏蔽结构,设置于该元件基底的该背面上,其中该屏蔽结构与该接合垫具有相对于彼此不同的厚度;一抗反射涂层,设置于该元件基底的该背面上;以及一第一缓冲层,设置于该抗反射涂层上,其中该屏蔽结构设置于该第一缓冲层上,并且该屏蔽结构不接触该元件基底。
地址 新竹市新竹科学工业园区力行六路8号