| 发明名称 |
曝光方法、图案形成方法、及曝光装置、以及元件制造方法 |
| 摘要 |
藉由照明系统(18A、18B)以照明光大致同时照明光罩(20A、20B)之状态下，藉由驱动系统，驱动光罩载台(12A、12B)与基板载台(14)，以与搭载基板22之基板载台(14)同步地于扫描方向扫描光罩(20A、20B)。藉此，能将各形成于光罩(20A、20B)之图案分别透过对应之投影光学系统(PLM1、PLM2)大致同时转印于基板(22)上之不同区域。亦即，以扫描曝光方式，能将各形成于复数个光罩之图案转印于基板上之不同区域。是以，与以一次之扫描曝光在基板上形成1个图案区域之情形相比较，能提升产能。 |
| 申请公布号 |
TWI452437 |
申请公布日期 |
2014.09.11 |
| 申请号 |
TW096144730 |
申请日期 |
2007.11.26 |
| 申请人 |
尼康股份有限公司 日本 |
发明人 |
奈良圭 |
| 分类号 |
G03F7/20;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
桂齐恒 台北市中山区长安东路2段112号9楼;阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼 |
| 主权项 |
一种曝光方法，系在基板上以m行n列(m≧n)之矩阵状配置形成m×n个图案区域，其特征在于：藉由曝光用光将该基板上之相互不同之至少两个图案区域曝光；藉由该曝光，以比(m×n)次少之曝光次数，于该基板上以矩阵状配置形成(m×n)个该图案区域。 |
| 地址 |
日本 |
