发明名称 透明导电性膜
摘要 本发明提供在构成为多层的透明导电性膜中,提高了视认性的透明导电性膜。透明导电性膜(10)具备:由膜状高分子树脂形成的透明的基材(11);层叠于基材(11)的一面上的第1硬涂层(12);层叠于第1硬涂层(12)的上侧的第1透明导电体层(14)。基材(11)具有2μm~250μm的膜厚。第1硬涂层(12)由含有无机氧化物的硬化性树脂形成,具有0.01μm以上且小于0.5μm、或超过6μm且10μm以下的膜厚。第1透明导电体层(14)由选自由无机氧化物、金属、碳所组成的组群中的至少1种形成,具有10nm~2μm的膜厚,且经图案化而形成有图案部与非图案部。
申请公布号 CN104040644A 申请公布日期 2014.09.10
申请号 CN201280065821.2 申请日期 2012.12.21
申请人 捷恩智株式会社 发明人 森本芳孝;田仲拓郎;大熊康之;黒松亜纪
分类号 H01B5/14(2006.01)I;B32B3/16(2006.01)I;B32B9/00(2006.01)I;B32B15/08(2006.01)I;B32B27/18(2006.01)I;G06F3/041(2006.01)I 主分类号 H01B5/14(2006.01)I
代理机构 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人 臧建明
主权项 一种透明导电性膜,其具备:由膜状高分子树脂形成的透明的基材;层叠于所述基材的一面上的第1硬涂层;以及层叠于所述第1硬涂层的上侧的第1透明导电体层,所述基材具有2μm~250μm的膜厚,所述第1硬涂层是由含有无机氧化物的硬化性树脂形成,且具有0.01μm以上且小于0.5μm、或超过6μm且10μm以下的膜厚,所述第1透明导电体层是由选自由无机氧化物、金属、碳所组成的组群中的至少1种形成,具有10nm~2μm的膜厚,且经图案化而形成有图案部与非图案部。
地址 日本东京千代田区大手町二丁目2番1号