发明名称 |
透明导电性膜 |
摘要 |
本发明提供在构成为多层的透明导电性膜中,提高了视认性的透明导电性膜。透明导电性膜(10)具备:由膜状高分子树脂形成的透明的基材(11);层叠于基材(11)的一面上的第1硬涂层(12);层叠于第1硬涂层(12)的上侧的第1透明导电体层(14)。基材(11)具有2μm~250μm的膜厚。第1硬涂层(12)由含有无机氧化物的硬化性树脂形成,具有0.01μm以上且小于0.5μm、或超过6μm且10μm以下的膜厚。第1透明导电体层(14)由选自由无机氧化物、金属、碳所组成的组群中的至少1种形成,具有10nm~2μm的膜厚,且经图案化而形成有图案部与非图案部。 |
申请公布号 |
CN104040644A |
申请公布日期 |
2014.09.10 |
申请号 |
CN201280065821.2 |
申请日期 |
2012.12.21 |
申请人 |
捷恩智株式会社 |
发明人 |
森本芳孝;田仲拓郎;大熊康之;黒松亜纪 |
分类号 |
H01B5/14(2006.01)I;B32B3/16(2006.01)I;B32B9/00(2006.01)I;B32B15/08(2006.01)I;B32B27/18(2006.01)I;G06F3/041(2006.01)I |
主分类号 |
H01B5/14(2006.01)I |
代理机构 |
北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 |
代理人 |
臧建明 |
主权项 |
一种透明导电性膜,其具备:由膜状高分子树脂形成的透明的基材;层叠于所述基材的一面上的第1硬涂层;以及层叠于所述第1硬涂层的上侧的第1透明导电体层,所述基材具有2μm~250μm的膜厚,所述第1硬涂层是由含有无机氧化物的硬化性树脂形成,且具有0.01μm以上且小于0.5μm、或超过6μm且10μm以下的膜厚,所述第1透明导电体层是由选自由无机氧化物、金属、碳所组成的组群中的至少1种形成,具有10nm~2μm的膜厚,且经图案化而形成有图案部与非图案部。 |
地址 |
日本东京千代田区大手町二丁目2番1号 |