发明名称 抗蚀剂层的薄膜化装置
摘要 本实用新型的课题在于提供一种抗蚀剂层的薄膜化装置,在能够解决分辨性和追随性的问题的抗蚀剂图案形成用的抗蚀剂层的薄膜化装置中,能够解决以缓慢、不均匀的液流为原因所发生的基板面内抗蚀剂层的薄膜化量变得不均匀的问题。在具备通过薄膜化处理液使抗蚀剂层中的光交联树脂成分胶束化的薄膜化处理单元,和通过胶束除去液将胶束除去的胶束除去处理单元的抗蚀剂层的薄膜化装置中,其特征在于,胶束除去处理单元具有用于供给胶束除去液的胶束除去液供给喷雾,胶束除去液喷雾朝向单一方向,通过上述抗蚀剂层的薄膜化装置能够解决问题。
申请公布号 CN203825368U 申请公布日期 2014.09.10
申请号 CN201420075013.0 申请日期 2014.02.21
申请人 三菱制纸株式会社 发明人 丰田裕二;后闲宽彦;川合宣行;中川邦弘
分类号 G03F7/30(2006.01)I 主分类号 G03F7/30(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 崔幼平;李婷
主权项 一种抗蚀剂层的薄膜化装置,具备通过薄膜化处理液使抗蚀剂层中的光交联性树脂成分胶束化的薄膜化处理单元,和通过胶束除去液将胶束除去的胶束除去处理单元,其特征在于,胶束除去处理单元具有用于供给胶束除去液的胶束除去液供给喷雾,胶束除去液喷雾朝向单一方向。
地址 日本东京都