等离子体处理室部件的保护性涂层及其使用方法

摘要

一种在等离子体室中使用的柔性聚合物或弹性体涂覆的射频返回带，以保护该射频带免受等离子体产生的自由基(比如氟和氧自由基)的损害，以及一种处理半导体衬底，同时减少等离子体处理装置中的微粒污染的方法。该涂覆射频带最小化微粒的产生并比未涂覆基底构件呈现出更低的侵蚀速率。在导电的柔性基底构件上具有柔性涂层的这种涂覆元件提供了射频地返回，其被配置为允许可调节间隙的电容耦合等离子体反应室中的一个或更多电极的移动。

主权项

一种在用于半导体衬底处理的等离子体处理装置中使用的射频返回带，所述射频返回带包含：弯曲金属条，其具有金属表面和粘着于所述金属表面并暴露于由等离子体产生的自由基的柔性涂层；以及所述柔性涂层是不包括导电填料微粒的交联硅氧烷，其中所述柔性涂层在由等离子体产生的自由基的环境中有更好的耐侵蚀性并保护所述金属条免受所述自由基的损害。