发明名称 抛光镍-磷的方法
摘要 本发明涉及对基材的表面进行化学-机械抛光的方法,其包括使包含镍-磷的基材的表面与包含湿法二氧化硅、使镍-磷氧化的试剂和氨基多羧酸的化学-机械抛光组合物接触,其中所述抛光组合物具有1~5的pH,和磨除所述镍-磷的至少一部分以抛光所述基材。
申请公布号 CN102089865B 申请公布日期 2014.09.10
申请号 CN200980126743.0 申请日期 2009.07.06
申请人 卡伯特微电子公司 发明人 文卡塔拉马南.巴拉苏布拉马尼亚姆;杨平熹
分类号 H01L21/304(2006.01)I 主分类号 H01L21/304(2006.01)I
代理机构 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人 宋莉
主权项 对基材进行化学‑机械抛光的方法,该方法包括:(i)提供包含镍‑磷的基材,(ii)使所述基材与化学‑机械抛光组合物接触,该化学‑机械抛光组合物包含:(a)湿法二氧化硅,其中所述湿法二氧化硅具有20nm~125nm的平均粒度,(b)使镍‑磷氧化的试剂,和(c)氨基多羧酸,其中所述氨基多羧酸选自β‑丙氨酸二乙酸、甲基甘氨酸二乙酸、羟乙基乙二胺三乙酸、二亚乙基三胺五乙酸、N,N,‑二(羧甲基)丙氨酸、前述氨基多羧酸的氨基官能团的酸式盐、前述氨基多羧酸的羧酸盐、及它们的组合,其中所述抛光组合物具有1~5的pH值,和(iii)使所述抛光组合物相对于所述基材移动以磨除所述镍‑磷的至少一部分以抛光所述基材。
地址 美国伊利诺伊州