发明名称 具有保护层的金属负极结构及其制备方法
摘要 本发明提供一种具有保护层的金属负极结构,它包括:金属负极;在所述金属负极上形成的且任选地与其直接接触的有机保护膜;其中,所述金属负极层中的金属选自碱金属或碱土金属,且所述有机保护膜含有所述金属与电子提供体化合物形成的反应产物。本发明还提供所述金属负极结构的制备方法。
申请公布号 CN102315420B 申请公布日期 2014.09.10
申请号 CN201010223498.X 申请日期 2010.07.05
申请人 中国科学院上海硅酸盐研究所;康宁股份有限公司 发明人 温兆银;吴梅芬;刘宇;黄乐之;迈克·巴汀;何琳
分类号 H01M4/13(2010.01)I;H01M4/139(2010.01)I 主分类号 H01M4/13(2010.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人 彭茜茜;白益华
主权项 一种具有保护层的金属负极结构,其特征在于,它包括:‑金属负极;‑在所述金属负极上形成的有机保护膜;‑还包括形成于所述金属负极和所述有机保护膜之间的无机层;所述无机层含有金属氮化物;其中,所述金属负极中的金属选自碱金属或碱土金属,且所述有机保护膜含有所述金属负极与电子提供体化合物形成的反应产物,所述电子提供体化合物选自吡咯、吲哚、咔唑、2‑乙酰基吡咯、2,5‑二甲基吡咯、或噻吩;或所述有机保护膜含有烷基吡咯化合物、苯基吡咯化合物、烯基吡咯化合物、羟基吡咯化合物、羰基吡咯化合物、羧基吡咯化合物、亚硝酰基吡咯化合物(nitrosylated pyrrolide)、和酰基吡咯化合物中的一种或多种。
地址 200050 上海市定西路1295号