一种无磷酸含硅铝合金电化学抛光工艺

摘要

本发明公开了一种无磷酸含硅铝合金电化学抛光工艺，针对含硅量超过2%铝合金的表面处理,将处理干净的含硅铝合金工件放入装有电解液的电解槽内，采用恒流或恒压进行电解抛光，恒流法时平均电流密度为3-10A/dm²，恒压法时电压10-50V,通电时间3-15分钟，然后水洗、吹干即可得到高光泽的表面。本发明的优点是：解决了含硅量高的铝合金通过化学抛光无法获得光亮表面的难题，通过发明的电解液和利用传统电抛光流程即可得到高光泽的表面,提高了铸造铝合金表面的装饰效果，同时本发明采用的抛光电流密度比一般电解抛光低,能耗低,具有更好的运用价值。

主权项

一种无磷酸含硅铝合金电化学抛光工艺，其特征是方法步骤如下：（1）将含硅铝合金工件上挂，挂具采用铝合金或钛合金,保证接触良好,经过除油处理，得到无油的表面，水清洗干净；（2）用铝质夹具钛夹具固定好，放入装有研制电解液的电解槽，电解液温度控制在30—60摄氏度,采用恒流或恒压进行电化学抛光，通电时间3‑15分钟,也可根据需要适当延长时间,光亮度会更好；（3）在抛光时,采用循环泵搅拌电解液，电解抛光结束后，断电后将工件取出，进行冷水洗和热水洗；（4）水洗后压缩空气吹干就可以下挂。