一种改善MOCVD外延片均匀性的石墨盘

摘要

一种改善MOCVD外延片均匀性的石墨盘，涉及MOCVD外延片生产技术领域，本实用新型包括大石墨盘和小石墨盘，在大石墨盘上设有通气小孔和栓，在小石墨盘中心的背部设置与栓匹配的支撑凹槽，小石墨盘通过支撑凹槽和栓的配合，布置在大石墨盘上方；在小石墨盘上设置有中心片槽和边缘片槽；边缘片槽沿中心片槽的外周均布；在小石磨盘的背部设置一圆柱形凹槽，支撑凹槽设置在圆柱形凹槽的中部。本实用新型通过对现有小石磨盘进行改良，在小石磨盘背部进行挖空，挖空形状为一规则圆柱形，改善了由于栓导热造成的小盘中心局部温度较高，从而降低小石墨盘中心和边缘温度差异，最终获得均匀性很好的外延片。

主权项

一种改善MOCVD外延片均匀性的石墨盘，包括大石墨盘和小石墨盘，在大石墨盘上设有通气小孔和栓，在小石墨盘中心的背部设置与栓匹配的支撑凹槽，所述小石墨盘通过支撑凹槽和栓的配合，布置在大石墨盘上方；在小石墨盘上设置有中心片槽和边缘片槽，所述边缘片槽沿中心片槽的外周均布；其特征在于：在所述小石磨盘的背部设置圆柱形凹槽，所述支撑凹槽设置在圆柱形凹槽的中部。