发明名称 |
曝光装置及其曝光方法 |
摘要 |
一种曝光装置及其曝光方法,所述曝光装置,包括:基台;晶圆载物台组,所述晶圆载物台组包括若干晶圆载物台,若干晶圆载物台依次在基台上的第一位置和第二位置之间循环移动;对准检测单元,进行晶圆的对准;掩膜板载物台,用于装载圆筒形掩膜板,并使所述圆筒形掩膜板绕中心轴旋转;光学投影单元,将透过圆筒形掩膜板的光投射到晶圆载物台上晶圆的曝光区;当晶圆载物台从第一位置移动到第二位置,然后沿扫描方向的单方向扫描时,圆筒形掩膜板绕中心轴旋转,透过圆筒形掩膜板的光投射到晶圆载物台上的晶圆上,对晶圆上的沿扫描方向排列的某一列曝光区进行曝光。进行曝光时,晶圆载物台不需要改变扫描方向,从而节省了曝光时间,提高了曝光效率。 |
申请公布号 |
CN104035285A |
申请公布日期 |
2014.09.10 |
申请号 |
CN201310069610.2 |
申请日期 |
2013.03.05 |
申请人 |
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
发明人 |
伍强;祖延雷;胡华勇;顾一鸣 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I;G03F9/00(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
骆苏华 |
主权项 |
一种曝光装置,其特征在于,包括:基台;晶圆载物台组,用于装载晶圆,位于基台上,所述晶圆载物台组包括若干晶圆载物台,若干晶圆载物台依次在基台上的第一位置和第二位置之间循环移动;对准检测单元,位于基台的第一位置上方,用于检测位于第一位置的晶圆载物台上的基准标记,以及该晶圆载物台上的晶圆上的对准标记,进行晶圆的对准;掩膜板载物台,位于基台的第二位置上方,用于装载圆筒形掩膜板,并使所述圆筒形掩膜板绕掩膜板载物台的中心轴旋转;光学投影单元,位于掩膜板载物台和基台之间,将透过圆筒形掩膜板的光投射到晶圆载物台上晶圆的曝光区;其中,当晶圆载物台从第一位置移动到第二位置,然后沿扫描方向的单方向扫描时,圆筒形掩膜板绕掩膜板载物台的中心轴旋转,透过圆筒形掩膜板的光投射到晶圆载物台上的晶圆上,对晶圆上的沿扫描方向排列的某一列曝光区进行曝光。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江路18号 |