发明名称 | 一种硬质涂层的快速沉积装置及方法 | ||
摘要 | 一种硬质涂层的快速沉积装置及方法,该装置包括阴极弧源以及开设进气口的真空腔体;真空腔体与真空系统相连,真空腔体与阴极弧源之间设有用于聚束腔体;聚束腔体与真空腔体相连通,且聚束腔体内设置有待测样,待测样与阴极弧源之间设有靶材,阴极弧源的电源正极分别与真空腔体和偏压电源的正极相连,阴极弧源的电源正极、真空腔体、偏压电源的正极分别接地。该方法为对真空系统抽真空,并利用氩气和反应气清洗真空系统,然后对待测样的表面进行辉光清洗,然后在其表面沉积过渡金属层,接着沉积硬质涂层。相比传统沉积装置及方法,本发明沉积速率大大提高,节约靶材,更节约能源。 | ||
申请公布号 | CN104032267A | 申请公布日期 | 2014.09.10 |
申请号 | CN201410186643.X | 申请日期 | 2014.05.05 |
申请人 | 西安交通大学 | 发明人 | 宋忠孝;雷哲锋;邢聪;程亮亮;宋佳豪 |
分类号 | C23C14/32(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/32(2006.01)I |
代理机构 | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人 | 陆万寿 |
主权项 | 一种硬质涂层的快速沉积装置,其特征在于:包括阴极弧源(3)以及开设有进气口的真空腔体(1);所述的真空腔体(1)与真空系统(4)相连,真空腔体(1)与阴极弧源(3)之间设有用于为阴极弧源(3)发出的等离子体提供聚束磁场的聚束腔体(2);聚束腔体(2)与真空腔体(1)相连通,且聚束腔体(2)内设置有待测样,待测样与阴极弧源(2)之间设有靶材,阴极弧源(3)的电源正极分别与真空腔体(1)和为待测样提供负偏压的偏压电源(5)的正极相连,阴极弧源(3)的电源正极、真空腔体(1)、偏压电源(5)的正极分别接地。 | ||
地址 | 710049 陕西省西安市咸宁西路28号 |