| 发明名称 | 用于光刻的包含糖组分的组合物及其制备方法 | ||
| 摘要 | 用于光刻的包含糖组分的组合物及其制备方法。本发明涉及一种用于浸没式光刻的新的光刻胶组合物。本发明优选的光刻胶组合物包含一种或多种含有糖取代基的材料。本发明特别优选的光刻胶在浸没式光刻工艺中，能够降低抗蚀材料在抗蚀层与浸没液体接触时的浸出。提供一种处理光刻胶组合物的方法，所述方法包括：在基材上施加光刻胶组合物，所述光刻胶组合物包括：(i)一种或多种树脂，(ii)光活性组分，和(iii)一种或多种含有糖取代基的材料，其中一种或多种材料与一种或多种树脂基本上是不互溶的，和(b)将光刻胶层在辐射中浸没曝光以活化光刻胶组合物。 | ||
| 申请公布号 | CN102591147B | 申请公布日期 | 2014.09.10 |
| 申请号 | CN201110463331.5 | 申请日期 | 2011.11.15 |
| 申请人 | 罗门哈斯电子材料有限公司 | 发明人 | 吴俊锡;D·王;刘骢;李明琦;C·吴;C-B·徐 |
| 分类号 | G03F7/004(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/004(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人 | 陈哲锋 |
| 主权项 | 一种处理光刻胶组合物的方法，所述方法包括：(a)在基材上施加光刻胶组合物，所述光刻胶组合物包括：(i)一种或多种树脂，(ii)光活性组分，和(iii)一种或多种含有糖取代基的材料，其中一种或多种材料与一种或多种树脂基本上是不互溶的，和(b)将光刻胶层在辐射中浸没曝光以活化光刻胶组合物。 | ||
| 地址 | 美国马萨诸塞州 | ||