一种解决高温下衬底原子蒸发影响平整度的方案及类似装置

摘要

本发明属于薄膜制备领域，更确切地说涉及高温下在衬底上进行沉积或喷镀等方法进行薄膜制备的领域以及类似装置。本发明的内容是提供一种解决高温下衬底原子流失影响平整度的设计方案；本发明利用加热装置(1)来加热衬底(2)至薄膜(3)生长所需的温度，在薄膜生长的过程中利用热反射装置B来反射衬底表面蒸发的材料(4)、(5)，实时补偿其衬底表面材料的流失；从而有效避免衬底在高温下的蒸发造成的成膜形貌缺陷，可以生长出平整的、高质量的薄膜材料。

主权项

一种解决高温下衬底原子流失影响平整度的设计方案，其设计原理在于：在薄膜生长的过程中，通过在衬底反方向安置高温反射装置，衬底表面蒸发的原子遇到此高温装置后，在高温下又被热源蒸发，类似一个反射过程，衬底原子实时补给回衬底；衬底的表面原子蒸发与补给达到动态平衡时，衬底的平整度得到完好的保存，在平整的衬底上生成的薄膜材料可以保持良好的形貌，达到高质量的成膜产品。