一种用于曝光的掩模台

摘要

本实用新型提供一种用于曝光工艺的掩模台，所述掩模台至少包括结构：底座；设置于所述底座上且用来支撑定位光掩模X方向的第一定位件；设置于所述底座上且用来支撑定位光掩模Y方向的第二定位件；所述第一定位件为真空夹具，所述真空夹具设置于所述光掩模两侧的下表面；所述第二夹持件为设置在光掩模Y方向上两侧的若干对机械夹具。本实用新型通过在光掩模Y方向上设置若干对机械夹具对所述光掩模进行限制，避免光掩模沿Y方向发生热膨胀导致图形叠加错误。

主权项

一种用于曝光的掩模台，其特征在于，所述用于曝光的掩模台至少包括：底座；设置于所述底座上且用来支撑定位光掩模X方向的第一定位件；设置于所述底座上且用来支撑定位光掩模Y方向的若干对第二定位件。