发明名称 |
氮化物半导体发光元件及其制造方法 |
摘要 |
本发明提供一种氮化物半导体发光元件,其由n型氮化物半导体层(13)、触发层(14)、V形坑扩大层(15)、发光层(16)、p型氮化物半导体层(17)按照此顺序依次设置而构成。发光层(16)中形成有V形坑(31)。触发层(14)由晶格常数不同于构成n型氮化物半导体层(13)上表面的材料的氮化物半导体材料构成。V形坑扩大层(15)由晶格常数与构成n型氮化物半导体层(13)上表面的材料实质上相同的氮化物半导体材料构成,其厚度在5nm以上、5000nm以下。 |
申请公布号 |
CN104040737A |
申请公布日期 |
2014.09.10 |
申请号 |
CN201280059896.X |
申请日期 |
2012.12.05 |
申请人 |
夏普株式会社;国立大学法人山口大学 |
发明人 |
柏原博之;冈田成仁;只友一行;泷口治久 |
分类号 |
H01L33/32(2006.01)I;H01L33/06(2006.01)I;H01L33/22(2006.01)I |
主分类号 |
H01L33/32(2006.01)I |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 31100 |
代理人 |
侯颖媖 |
主权项 |
一种氮化物半导体发光元件,其特征在于,该氮化物半导体发光元件由n型氮化物半导体层、触发层、V形坑扩大层、发光层、p型氮化物半导体层按照此顺序依次设置而构成,所述发光层中形成有V形坑,所述触发层由晶格常数不同于构成所述n型氮化物半导体层的上表面的材料的氮化物半导体材料构成,所述V形坑扩大层由晶格常数与构成所述n型氮化物半导体层的上表面的材料实质上相同的氮化物半导体材料构成,且厚度在5nm以上、5000nm以下。 |
地址 |
日本大阪府 |