发明名称 |
用于显示装置的倾斜小面 |
摘要 |
本发明提供用于经压印衬底上的所提供经掩蔽结构的系统、方法及设备。在一个方面中,这些经掩蔽结构可为供用作前灯膜的部分的反射小面。在另一方面中,这些经掩蔽结构可为供用作电容性触摸屏阵列的部分的经掩蔽布线。在一个方面中,所述结构可具有形成于其上的离散掩模,而在其它方面中,这些结构可具有自掩蔽属性且可包含干涉式黑色掩模。 |
申请公布号 |
CN104040407A |
申请公布日期 |
2014.09.10 |
申请号 |
CN201280064074.0 |
申请日期 |
2012.12.14 |
申请人 |
高通MEMS科技公司 |
发明人 |
罗伯特·L·霍尔曼;克里斯托弗尔·A·莱弗里;汤民豪 |
分类号 |
G02B26/00(2006.01)I;G06F3/044(2006.01)I |
主分类号 |
G02B26/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 |
代理人 |
孙宝成 |
主权项 |
一种设备,其包括:柔性衬底,其具有形成于所述衬底的第一表面中的多个凹痕;及反射小面,其至少部分地位于所述凹痕内,其中所述反射小面包含:反射表面,其位于所述小面的面向所述凹痕的侧上;及小面掩蔽结构,其在所述反射小面的与所述衬底相对的侧上,其中所述小面掩蔽结构的反射性小于所述反射表面。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |