发明名称 处理装置及处理方法
摘要 本发明的一个实施方式,为具备用冲刷液冲洗处理物的表面的处理液的冲刷部、以及使上述处理物的表面干燥的干燥部的处理装置,上述干燥部具有:腔室;设置在上述腔室的内部、朝上述处理物的表面喷射气体的喷嘴;设置在上述冲刷部与设置有上述喷嘴的上述腔室内部的空间之间的气流控制部;以及沿上述处理物的搬送方向排列的多个搬送辊。并且,上述气流控制部具有设置在上述处理物搬入一侧的第1开口部和设置在上述处理物搬出一侧的第2开口部,上述第2开口部的开口面积比上述第1开口部的开口面积小。
申请公布号 CN104037108A 申请公布日期 2014.09.10
申请号 CN201410080006.4 申请日期 2014.03.06
申请人 株式会社东芝 发明人 佐佐木真一;添田胜之;西部幸伸
分类号 H01L21/67(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I 主分类号 H01L21/67(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 王成坤;胡建新
主权项 一种处理装置,具备:冲刷部,用冲刷液冲洗存在于处理物的表面的处理液;以及干燥部,使上述处理物的表面干燥,上述干燥部具有:腔室;喷嘴,设置在上述腔室的内部,朝上述处理物的表面喷射气体;气流控制部,设置在上述冲刷部与设置有上述喷嘴的上述腔室内部的空间之间;以及多个搬送辊,沿上述处理物的搬送方向排列,上述气流控制部具有设置在上述处理物搬入一侧的第1开口部和设置在上述处理物搬出一侧的第2开口部,上述第2开口部的开口面积比上述第1开口部的开口面积小。
地址 日本东京都